NEXUS DLC-X 沉积系统

超硬抗腐蚀 TFMH 涂层薄膜技术

使用 Veeco 的 NEXUS DLC-X 系统，可沉积致密的、一致且可重复的薄类钻碳 (DLC) 薄膜，以获得耐久的 TFMH 滑片涂层和放置平台。Nexus DLC-X 拥有行业领先的适合生产的脉冲滤波阴极电弧源，可实现小于 20A 的涂层厚度，与上几代产品相比，可支持改进的步进范围，实现更好的工艺产出。 

• 脉冲滤波阴极电弧提供了优异的一致性、可重复性和薄膜硬度
• 长移距、低压 PVD 提供了致密的、无针孔硅种子层
• 支持反应 PVD 工艺
• 可调整的低能量 NEXUS 420 离子束蚀刻源可实现从 75 伏特到 300 伏特束流能量下稳定地工作
• 倾斜的椭圆偏振计，便于蚀刻和沉积端点控制