NEXUS IBE-420Si 离子束蚀刻系统

在广泛的能源和工艺方面提供了优异的一致性

使用 NEXUS® IBE-420Si™ 离子束蚀刻系统，可最大程度地增加滑片生产量，实现优异的离子束蚀刻一致性。NEXUS IBE-420Si 系统在广泛的能源和工艺方面提供了优异的一致性，便于实现新一代 ABS 步进和空腔加工的蚀刻深度控制。

• 优异的一致性和增强的蚀刻深度控制
• 实现了最高的产量，减少了不必要的配件以实现最低成本
• 在世界一流的 NEXUS 硬件和软件平台上很容易与常用技术集成
• 新 NEXUS 420 离子源提高了蚀刻一致性和工艺可重复性
• 还可一并提供 RF350 源，以供工艺中需要 RF350 源的生产部门加以合规使用
• 平台可以低成本地现场升级到 NEXUS 420 离子源