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SPECTOR Loadlock 离子束沉积系统

出色的产量和可重复性,应用范围十分广泛

Veeco 的 SPECTOR® Loadlock 离子束沉积系统能够在多种应用场合显著提高产量。 SPECTOR Loadlock 可以在加载基底后 5 分钟内迅速开始沉积,使沉积时间少于批量工具通常所需的预处理时间,从而轻松实现了产量的成倍增长。 


成功地维持了工艺参数(如压力、温度、目标曲面组成和离子源动力)的稳定状态,同时增强了系统的可重复性。 对于较少暴露在空气和湿度下的组件,如无线电频率中和剂、生长室衬垫和屏蔽等,SPECTOR Loadlock 用户可以享受较长的平均维护时间间隔 (MTBM)。 凭借这些特点和优势,用户能够以低廉的成本,生产出市场上精度最高的优质薄膜。

  • 中/低厚度镀层应用场合的产量显著增加
  • 凭借本身更加稳定的工艺条件,改善了系统的可重复性
  • 多个关键组件的平均维护时间间隔更长
  • 微粒控制功能得到改进
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