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金属有机化学气相沉积系统(MOCVD )
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TurboDisc K475 As/P MOCVD 系统

最佳的可靠性和最低廉的生产成本

TurboDisc® K475 As/P MOCVD(有机金属化学气相沉积)系统是诸多化合物半导体器件的最佳生产工具,产量为业界最高:

  • CPV(聚光光伏)太阳能电池
  • ROY LED(红色、橙色、黄色发光二极管)
  • 激光二极管
  • pHEMT(赝配高电子迁移率晶体管)
  • HBT(异质结双极型晶体管)

K475设备利用Veeco 经久不凡的技术(GaN LED 市场的领军者),结合了关键反应器技术,使正常运行时间和产量达到最大化。使用的技术包括可调式 FlowFlange®、高级 RealTemp® 200 温度控制和终极 TurboDisc 高速层流技术,同时集成始终处于真空状态的系统预备室,使运行期间的故障停机时间缩至最短。上述所有技术都是实现成本节约,从而提升 K475 效率的关键要素。

Veeco:随时投产。

CPV 是一项飞速发展的技术,经过多次概念验证式小型安装(1 MW 或更低),现已向直接日射辐照度 (DNI) 较高的地区用于越来越多具有全球影响力的大型项目。事实证明,As/P MOCVD 是为 CPV 器件构建关键化合物半导体层的首选技术。Veeco 提供的优质 MOCVD 设备,应用的关键性 As/P MOCVD 技术可降低三结太阳能电池的生产成本,让制造商能够轻松地提高模块系统的生产能力,最低的成本实现最高的产能。


选择 TURBODISC K475

  • 最高的产量
  • 关键集成式反应器设计技术,能够实现出色的均匀性、可重复性和最长的正常运行时间
  • 集成式真空预备室,使运行期间的故障停机时间降至最短
  • 模块化设计可减轻维护工作,便于升级
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