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最佳的可靠性和最低廉的生产成本TurboDisc® K475 As/P MOCVD(有机金属化学气相沉积)系统是诸多化合物半导体器件的最佳生产工具,产量为业界最高:
K475设备利用Veeco 经久不凡的技术(GaN LED 市场的领军者),结合了关键反应器技术,使正常运行时间和产量达到最大化。使用的技术包括可调式 FlowFlange®、高级 RealTemp® 200 温度控制和终极 TurboDisc 高速层流技术,同时集成始终处于真空状态的系统预备室,使运行期间的故障停机时间缩至最短。上述所有技术都是实现成本节约,从而提升 K475 效率的关键要素。 Veeco:随时投产。CPV 是一项飞速发展的技术,经过多次概念验证式小型安装(1 MW 或更低),现已向直接日射辐照度 (DNI) 较高的地区用于越来越多具有全球影响力的大型项目。事实证明,As/P MOCVD 是为 CPV 器件构建关键化合物半导体层的首选技术。Veeco 提供的优质 MOCVD 设备,应用的关键性 As/P MOCVD 技术可降低三结太阳能电池的生产成本,让制造商能够轻松地提高模块系统的生产能力,最低的成本实现最高的产能。
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