选择适合您的物理气相沉积系统。
NEXUS TAMR PVD 系统- NEXUS PVD-1 系统
NEXUS PVD-HR 系统
NEXUS PVDi 系统
CYCLONE 物理气相沉积系统
物理气相沉积系统功能和优点
功能：
- 专有 TAMR 拥有专门工艺，可在传导热源的读写头上沉积关键的光学结构层
- 具有以“介电操作模式”和“金属操作模式”对氧化物薄膜进行加热沉积的功能。
- 经过生产验证的高速率反应氧化铝平台和专有过程控制
- NEXUS 平台集成了多种 Veeco 技术（例如离子束沉积、离子束蚀和原子层沉积）
优点：
- 支持新一代数据存储应用
- 显著提高区域密度
- 高沉积速率、低光学损耗钽五氧化物 (Ta2O5) 和铝氧化物 (Al2O3) 薄膜
功能：
- 轻松配置可满足特定加工和生产需求
- 可生长多种尺寸的外延片（从 3" 到 8"）
- 面向数据存储扇区和磁性材料的多种应用
- 在 NEXUS 硬件和软件平台上轻松整合
优点：
- 兼具简单、可靠、优异气相沉积系统性能
- 模块化平台简化了培训、维护需求，减少了备件库存
- 旨在轻松通过附加模块（例如阴极和薄片夹头）进行重新配置
功能：
- 提高了离子辅助沉积的灵活性和加工可调整性
- 优异的厚度一致性和片间可重复性，且没有靶污染
- 提供非电弧镀的和无针孔薄膜
优点：
- 满足厚涂层应用的高速率沉积要求
- 与其他厂商相比，拥有最高的产量，高 4 倍的均匀性和可重复性
- 最快速的安装，能够在 NEXUS 平台上集成多项技术
功能：
- 集成系统可提供各种应用，能够达到 200mm
- 具有多种沉积模式的高级加工能力
- NEXUS 通用硬件和软件平台
优点：
- 卓越的可靠性和一致性有助于提高过程产出
- 增加了生产量和正常运行时间，降低了经营成本
- 可与各种 Veeco 技术轻松、低成本地集成
功能：
- 适合各种复杂形状
- 无需复杂地旋转三维物体
- 高效、一致的溅射源
- 一流工艺控制平台
优点：
- 满足各种三维薄膜应用的要求
- 优异的薄膜厚度控制
- 提供满足严格特性规范的远程遥控设备
- 高能离子束沉积工艺提供了更好的堆积密度和低针孔密度