NEXUS PVD-HR 系统

高速率氧化铝沉积的一致性和可重复性

Veeco 高速率氧化铝 NEXUS PVD-HR 物理气相沉积系统提供了优异的厚度一致性和晶片到晶片可重复性，同时不会出现靶中毒现象。旨在提供非电弧镀和无针孔薄膜，NEXUS PVD-HR 在小型设备上整合了“同类中最佳”技术，实现较低的经营成本。

• 与其他厂商相比，拥有最高的产量，高 4 倍的均匀性和可重复性
• 6 x 8" 晶片的行业领先生产量
• 系统可达到 200mm容量，拥有更好的工艺灵活度
• 优异的沉积速率和可调整的薄膜性能实现了最低的经营成本
• 世界一流的 NEXUS 平台集成了各种 Veeco 技术（例如离子束沉积、离子束蚀刻、原子层沉积和反应溅射）