NEXUS TAMR 物理气相沉积系统

启用新一代数据存储应用

Veeco NEXUS TAMR PVD 系统可沉积用于激光器光波导的关键低损耗薄膜层它具有以“介电操作模式”和“金属操作模式”对氧化物薄膜进行加热沉积的功能。这些创新使钽氧化物 (Ta2O5) 和铝氧化物 (Al2O3) 薄膜具有高的沉积速率和低的光学损耗。Veeco TAMR PVD 系统还拥有经过生产验证的 Veeco 高速率反应氧化铝平台和专有的过程控制。

• 卓越的可靠性和一致性有助于提高过程产出
• 增加了生产量和正常运行时间，降低了经营成本
• NEXUS 平台集成了多种 Veeco 技术（例如离子束沉积、离子束蚀和原子层沉积）