金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统

业界最高生产率和最高产量的 As/P MOCVD 系统。

Veeco 全新的 TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统是业界用于生产红色、橙色、黄色 (R/O/Y) LED 以及多结 III-V 太阳能电池、激光二极管和晶体管的最佳反应腔。K475i 系统具有运用 Veeco 的 Uniform FlowFlange™ 技术的全新反应腔设计,所生产出的薄膜具有极高的一致性和更理想的晶片内和晶片间重复性,以及业界最低的颗粒生成。Uniform FlowFlange 技术的简单设计可轻松实现快速工艺优化以及维护后的快速工具恢复时间,从而为照明、太阳能、激光二极管、赝配高电子迁移率晶体管 (pHEMT) 和异质结双极型晶体管 (HBT) 等应用提供最高生产率。

  • 全新的 Uniform FlowFlange 技术设计可实现最佳的一致性和工艺重复性,从而带来更高产量
  • 完善的反应腔设计不仅简单易用,而且可加快维护后恢复,从而尽可能增加正常运行时间
  • 全自动运行可带来业界最高的生产率
  • 经实际生产验证的平台可提供最低的拥有成本

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