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化学气相沉积
NEXUS CVD 系统
CIGS 热沉积源
热沉积源
光伏系列 CIGS 源
铜、铟和镓的光伏系列 CIGS SUMO 源
适用于硒的 PV 系列 CIGS 带阀源
类金钢石碳系统
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离子束沉积
NEXUS IBD 离子束沉积系统
NEXUS LDD-IBD 离子束沉积系统
SPECTOR 离子束沉积系统
SPECTOR 大范围行星式离子束沉积(IBD)系统
SPECTOR Loadlock IBD 系统
SPECTOR-HT IBD 系统
离子束蚀刻
NEXUS IBE-350Se 离子束蚀刻系统
NEXUS IBE-350Si 离子束蚀刻系统
NEXUS IBE-420i 离子束蚀刻系统
NEXUS IBE-420Si 离子束蚀刻系统
离子源
有栅 DC 离子源
11 厘米 DC 离子源
15 厘米 DC 离子源
2.5 厘米 x 22 厘米 DC 离子源
21 厘米 DC 离子源
3 厘米 DC (CSC) 离子源
3 厘米 DC (ITI) 离子源
5 厘米 DC 离子源
6 厘米 x 30 厘米 DC 离子源
6 厘米 x 50 厘米 DC 离子源
8 厘米 DC 离子源
MPS3000 电源
MPS5001 电源
SOLUS DC 离子源控制器
有栅 RF 离子源
12 厘米 RF 离子源
16 厘米 RF 大功率
16 厘米 RF 离子源
3 厘米 RF 离子源
6 厘米 RF 离子源
6 厘米 x 110 厘米 RF 离子源
6 厘米 x 22 厘米 RF 离子源
6 厘米 x 66 厘米 RF 离子源
RF2001 电源
无栅阳极层离子源
ALS 1000
ALS 1500
ALS 340
ALS 650
线性阳极层离子源
无栅 End-Hall 离子源
Mark I 无栅离子源
Mark I+ 无栅离子源
Mark II 无栅高能离子源
Mark II 无栅离子源
Mark II+ 控制器
Mark II+ 无栅高能离子源
Mark II+ 无栅离子源
磁控管
圆柱磁控管
研磨及切割系统
Optium ADS 160 高级切割系统
Optium ADS-800 高级切割系统
Optium ASL 200 切割系统
分子束外延 (MBE) 技术
MBE 组件
阀门自动定位器
CBr4 气体流量控制系统
结合 PID 温控器的直流电源
气体源交付系统
适用于 MBE 系统的生长控制和计划软件
生长阶段定位器
MBE 坩锅
MBE 热源式观测窗
MBE 线性移动快门
MBE 源连接阀
MBE 系统电缆
氧压控制系统
磷回收系统
磷阀式裂解器温控器
基板加热器
UNI-Block MBE 基片承载器
UNI-Bulb RF 等离子源自动调节器
MBE 源
掺杂剂
掺杂源
低温气体源
高温
高温源
低温
耐氨源
砷阀式裂解器
腐蚀性材料专用阀式裂解器
双丝源
耐氧源
磷阀式裂解器
硒阀式裂解器
单丝源
硫阀式裂解器
SUMO 源
中温
耐氨源
适用于铝的冷边 SUMO 源
适用于镓和铟的向下开口的 SUMO 源
双丝源
适用于镓和铟的热边 SUMO 源
耐氧源
单丝源
特性
Atom-H 源
气体裂解器
低温气体源
适用于氧、氮和氢的 UNI-Bulb RF 等离子源
MBE 系统
GEN II MBE 系统
GEN10 MBE 系统
GEN20 MBE 系统
GEN200 Edge MBE 系统
GEN2000 Edge MBE 系统
GEN930 MBE 系统
金属有机化学气相沉积系统(MOCVD )
TurboDisc E475 As/P MOCVD 系统
TurboDisc K465 GaN MOCVD 系统
TurboDisc K465i GaN MOCVD 系统
TurboDisc K475 As/P MOCVD 系统
TurboDisc MaxBright GaN MOCVD 多反应室系统
物理气相沉积系统
CYCLONE 物理气相沉积系统
NEXUS PVD-1 系统
NEXUS PVD-HR 系统
NEXUS PVDi 系统
NEXUS TAMR PVD 系统
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