离子束系统及离子源

离子束系统及离子源

Veeco 提供行业领先的离子束蚀刻与沉积技术。

离子束沉积

利用离子束沉积 (IBD) 系统打造具有最大一致性和可重复性的高精度、高纯度薄膜器件。

离子束蚀刻

NEXUS® 离子束蚀刻 (IBE) 系统拥有多种精密复杂的功能,可以大幅提高离散的微电子设备和组件的良率。

离子源

Veeco 可为广泛应用提供最全面的离子束源,其中包括行业唯一的线性有栅离子源。

Lancer 离子束蚀刻系统

独立的离子束蚀刻系统,具有较低的拥有成本和最高质量的蚀刻属性