有栅 RF 离子源

有栅 RF 离子源

Veeco 的有栅 RF 离子源专为改善长时间运行的离子束沉积工艺的生产而设计。

16 厘米 RF 离子源

获得适用于反应性工艺(例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积)的宽而均匀的离子束源。

12 厘米 RF 离子源

利用 Veeco 12 厘米 RF 离子源改进长期连续反应性工艺的性能和质量,例如光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。

NOVUS RF 离子源控制器

Veeco 的 NOVUS RF 离子源控制器拥有最先进的精密控制系统设计,可以为离子源操作提供稳定的功率。

6 厘米 x 22 厘米 RF 离子源

Veeco 的 6 x 22cm 有栅线性 RF 离子源设计用于具有基底板的高效在线系统,非常适合使用 100% 气体的工艺。

6 厘米 x 66 厘米 RF 离子源

Veeco 的 6 x 66 厘米 RF 线性离子源是大规模基底的均匀制程的理想之选,可针对长期生产运行提供低维护、无灯丝操作。

16 厘米高功率 RF 离子源

Veeco 的 16 厘米 RF HP 离子源在 120 厘米范围内的离子束均匀度 < 10%,非常适合用于反应性工艺。