MBE 组件

MBE 组件

Veeco 严格按照操作标准,并以实现高度可靠、灵活的性能为目标,可提供各种 MBE 组件。

磷回收系统

使用磷回收系统 (PRS),可在为 MBE 系统通风以进行维护和/或源重新装载之前安全地捕获及中和白磷。

MBE 坩埚

Veeco 适用于 MBE 泄流室的全系列 PBN 坩埚(包括专门用于 Veeco SUMO® 室的坩埚)可增加主要源的电荷携带量。

适用于 MBE 系统的生长控制和计划软件

对于寻求全方位工艺控制解决方案的公司来说,Veeco 可通过 Molly 生长控制软件和 Lot Manager 计划软件为研究和生产 MBE 系统提供集成的软件控制解决方案。

磷阀式裂解器温度控制器

借助磷阀式裂解器温度控制器,可确保对因环境不断变化而造成流量不稳定的情况进行精确、稳定的控制。

阀门自动定位器

Veeco SMC-II 的自动阀门定位器可提供精确、可重现的自动流量控制。它可完全自动定位源的针形阀并远程控制阀的位置。

UNI-Bulb RF 等离子源自动调节器

Veeco RF 等离子源自动调节器可自动调整和保持最佳等离子源状态,在实验期间无需手动调整。

UNI-Block MBE 基底承载座

UNI-Block® 无铟基底承载座提供更高的灵活性、颗粒生成更少。它可在同一承载环中快速安装全部或部分基底。

基底加热器

Veeco 基底加热器针对特定温度和生长环境定制,可优化加热灵活性。可使用基底加热器直接替换常用 MBE 系统的组件。

MBE 系统电缆

Veeco 的系统电缆将室与控制器相连,可实现较高的电荷携带量和较高的工作温度,进而可确保可靠的 MBE 泄流室运行。

CBr4 气体流量控制系统

在高性能的气体 UHV 交付中,Veeco 气体裂解器可优化流量均匀度,并控制 CBr4 气体向 UHV 环境的引入。

电源解决方案

用于多功能的 MBE 电源 

氧压控制系统

Veeco 的氧压控制系统可在 MBE 氧化物应用场合进行安全高效的氧气控制。 它能够精确控制 MBE 生长模块中的氧气量。

MBE 加热式视口

Veeco 加热式视口可实现连续、实时的反馈控制,从而防止在 MBE 系统中的光学端口上形成涂层。

气体源交付系统

Veeco 的气体源交付系统 (GSDS) 可确保精确控制气体。它能够互锁和监测惰性气体、有害气体和/或可燃气体,而且可以方便地集成到现有系统。

生长阶段定位器

Veeco GSP 利用光学编码位置反馈,可确保精确、准确的可重复定位。