Veeco 为反应性工艺（例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积）提供宽而均匀的离子束源。

• 可支持的操作条件范围广泛：50 到 1500eV，75 到 700mA
• 在惰性和氧化环境中均能实现可靠一致的操作
• 水冷式——适用于低功率到高功率运行
• 可选的 4 网格设计提供了非常高的准直性
• 它具有业界唯一的无丝状 RF 中和器，其维护工作少，支持长时间运行
• 稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性
• 非常适合于负载锁定生产工艺