Fiji – 用于研发的等离子增强原子层沉积 (ALD)

高级研究的先进功能

我们的 Fiji® 系列是一款模块化的高真空原子层沉积 (ALD) 系统,其使用灵活的架构和多种前体和等离子体气体的配置,可适应各种沉积模式。能够执行热和等离子体增强沉积的下一代原子层沉积 (ALD) 系统由此而来。

我们应用先进的计算流体动力学分析来优化 Fiji® 反应腔、加热器和捕获器几何结构。系统的直观界面有利于轻松监控和根据需要更改配方和流程。

Fiji 的高级功能包括:

  • 专有腔室涡轮泵系统
  • 改善的等离子体设计
  • 人体工程学操作员界面
  • 原位椭圆偏振术
  • 原位石英晶体微平衡
  • 集成臭氧
  • 手套箱接口

Fiji® 可提供多种不同配置,包括双腔和负载锁。每个腔室都可以配置多达 6 个前体线以适应固体、液体或气体前体,和 6 个等离子体气体管路,在紧凑且经济实惠的面积中提供显著的实验灵活性。

下载我们最新的白皮书:以色列理工学院的研究人员使用 Veeco 的 Fiji® Plasma ALD 系统,发布了 ALD 氮化物薄膜中接近创纪录的低氧掺入率和近体质量电阻率

技术规格

操作模式 Continuous Mode™(传统热原子层沉积 (ALD))
Exposure Mode™(高纵横比原子层沉积 (ALD))
Plasma Mode™(等离子体增强型原子层沉积 (ALD))
基质尺寸 最多 200 mm
基质温度 500°C 200mm 基质加热器标准
800°C 100mm 基质加热器可选
沉积均匀性 1 σ 均匀性
热敏 Al2O3– 1.5%
等离子 Al2O3– 1.5%
前体 4 前体线标准,最多 6 可选
可独立加热至 200°C 的气体、液体或固体前体
行业标准高速原子层沉积 (ALD) 阀(最小脉冲时间为 10ms)
广泛可用 50cc(最大 25mL 填充)不锈钢前体汽缸
气体 100 sccm Ar 前体载气 MFC
200 sccm Ar 等离子体气体 MFC
100 sccm N2等离子 MFC
100 sccm O2等离子 MFC
100 sccm H2等离子 MFC
捕获器 集成、加热、薄箔原子层沉积 (ALD) 捕获器
兼容性 洁净室级别 100 兼容
合规性 CE、TUV、FCC
尺寸 F200:
1600 x 715 x 1920 毫米
F200 带负载锁:
1845 x 715 x 1920 毫米
功率 220-240 VAC,4200 W/反应腔(不包括泵)
控制 Microsoft Windows™ 7 笔记本电脑,基于 LabView 的系统控制
真空泵 需要 >50 CFM 干泵
提供或客户提供
系统选项 光谱椭圆偏振计端口
石英晶体微平衡
RGA 端口
光学发射光谱仪
晶片 +
臭氧发生器
低蒸汽压力沉积
手套箱接口
负载锁

我们的团队随时准备提供帮助