适用于光电应用的 Lumina AS/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统


以超过 20 年的丰富金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 经验启用基于 As/P的光电设备
Lumina R480 和 R480S 系统基于 Veeco 业界领先的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) TurboDisc® 技术,在长时间的生产过程中,其具有卓越的均匀性和低缺陷率,带来出色的产量和灵活性。此外,Veeco 的专有技术也提供均匀的热控制,可实现卓越的厚度和组合均匀性。该系统提供无缝晶片尺寸过渡,能够在直径达 6 英寸的晶片上沉积高质量 As/P 外延层。R480 和 R480S 系统允许用户自定义系统以实现最大价值。

设计旨在推进下一代设备

VCSEL

  • 3D 传感
  • LiDAR
  • 高速数据通信

边缘发射激光器

  • 先进的光学通信
  • 硅光电

迷你和微型 LED

  • 4K 和 8K 电视显示屏
  • 智能手机
  • 可穿戴设备
  • AR/VR(增强现实/虚拟现实)

我们的团队随时准备提供帮助