用于光学镀膜的 SPECTOR-HT 离子束溅镀系统

达到物理气相沉积速率的离子束光学镀膜

配备 SPECTOR-HT™ 高级离子束溅镀系统，不仅可以生产出质量最佳的光学薄膜，还可以提升生产率和产量。SPECTOR-HT 系统以 SPECTOR® 离子束系统系列久经考验的优异性能为基础，可实现极佳的层厚度控制和更出色的工艺稳定性，而且光损耗在业内已公布的数据中也属最低。

对于带通滤波器、分束器以及无源式激光器等前沿光波干扰镀膜应用，SPECTOR-HT 的设计可以改善一些关键生产参数，如靶材利用率、光学端点控制和加工时间。SPECTOR-HT 将离子束溅镀 (IBS) 技术的诸多固有优势——低散射损耗、高薄膜纯度、稳定的沉积率和低于 0.1 纳米的薄膜厚度控制——整合到一个更为强大的套件中，从而显著提升制造商的产量并降低其拥有成本。

• 通过改善沉积率和增大批量，系统产量最高可以增加 400%
• 靶材利用率最高可以增加 300%、减少维护并改善整体拥有成本
• 专为提高薄膜均匀度而优化的刀具几何结构与固有的 IBS 加工技术优势相结合，可使材料均匀度提升 50%。
• SPECTOR-HT 专为实现工艺灵活性而设计，可通过多种途径提高工艺灵活性：我们最新一代的工艺控制系统具备友好的操作界面，批量更大，工艺选择更丰富，沉积率稳定，可以实现无人值守的系统操作
• 著名 2013 年 R&D 100 大奖获得者