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无栅 End-Hall 离子源
Veeco 的无栅 End-Hall 离子源可为真空镀膜工艺提供高束电流。
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Mark II+ 无栅离子源
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Mark II+ 控制器
借助 Mark II+ 离子源控制可最大化离子源性能、薄膜蚀刻、清洁及沉积均匀度。
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Mark II+ 无栅高能离子源
适用于需要高电流、低能离子的应用,Mark II+ 无网格高输出离子源设计为真空镀膜……
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