离子束蚀刻

NEXUS® 离子束蚀刻 (IBE) 系统拥有多种精密复杂的功能,可以大幅提高离散的微电子设备和组件的良率。

蚀刻系统

NEXUS® 离子束蚀刻 (IBE) 系统拥有多种精密复杂的功能,可以大幅提高离散的微电子设备和组件的良率。

独立的离子束蚀刻系统,具有较低的拥有成本和最高质量的蚀刻属性
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使用 NEXUS® IBE™ 离子束蚀刻系统,可最大程度地增加滑片良率,实现优异的离子束蚀刻一致性。
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