切换导航
English
中国
日本
台灣
한국
投资者
工作机会
新闻/博客
联系我们
English
中国
日本
台灣
한국
市场
半导体
前端流程
先进封装
远紫外线 (EUV)/光掩模
光电
迷你/microLED
VCSEL/EEL
红色/橙色/黄色 LED
通信与数据存储
HDD
RF 设备/过滤器
光学
传感器、科学与电力
电源管理
材料科学
MEMS
技术与产品
激光加工系统
光刻系统
离子束系统
沉积系统
溅射系统
蚀刻系统
离子源
有栅 DC 离子源
无栅 End-Hall 离子源
有栅 RF 离子源
类钻碳
金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)
湿法处理系统
分子束外延 (MBE) 技术
MBE 系统
MBE 源
掺杂剂
高温
低温
中温
专用源
MBE 组件
原子层沉积 (ALD)系统
原子层沉积 (ALD) 概述
ALD 优势
用于研究的 ALD
用于生产的 ALD
有关 ALD 的行动
ALD 材料
ALD 应用
用于 3D 纳米加工的 ALD
III-V 半导体器件
电池
硫属元素化物
电子
封装
自组装单分子膜 (SAMS)
水分解
ALD 知识中心
ALD 周期表
ALD 研究
ALD 服务
物理气相沉积系统
切割和研磨系统
气体及气相传送系统
服务与支持
公司
领导团队
工作机会
历史
质量
新闻/博客
活动
企业社会责任
投资者
工作机会
新闻/博客
联系我们
分子束外延 (MBE) 技术
在每次制造一种晶体的异质化合物半导体薄膜时,您需要一个可针对各种应用进行配置的分子束外延 (MBE)系统。
分子束外延 (MBE) 技术
在每次制造一种晶体的异质化合物半导体薄膜时,您需要一个可针对各种应用进行配置的分子束外延 (MBE)系统。
MBE 系统
Veeco 可提供业内最广泛且具有创新及可靠性能的分子束外延 (MBE) 系统。
阅读详情
MBE 源
Veeco 提供 MBE 源,包括专为众多要求低、中或高温的元件定制的单、双灯丝设计。
阅读详情
MBE 组件
Veeco 严格按照操作标准,并以实现高度可靠、灵活的性能为目标,可提供各种 MBE 组件。
阅读详情
技术与产品
激光加工系统
光刻系统
离子束系统
沉积系统
溅射系统
蚀刻系统
离子源
有栅 DC 离子源
无栅 End-Hall 离子源
有栅 RF 离子源
类钻碳
金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)
湿法处理系统
分子束外延 (MBE) 技术
MBE 系统
MBE 源
掺杂剂
高温
低温
中温
专用源
MBE 组件
原子层沉积 (ALD)系统
原子层沉积 (ALD) 概述
ALD 优势
用于研究的 ALD
用于生产的 ALD
有关 ALD 的行动
ALD 材料
ALD 应用
用于 3D 纳米加工的 ALD
III-V 半导体器件
电池
硫属元素化物
电子
封装
自组装单分子膜 (SAMS)
水分解
ALD 知识中心
ALD 周期表
ALD 研究
ALD 服务
物理气相沉积系统
切割和研磨系统
气体及气相传送系统
×