光掩模应用

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远紫外线 (EUV) 光刻是一种快速发展的现实。通过远紫外线 (EUV) 支持的前所未有的纳米级设备需要极高的光掩模精度,这只能由 Veeco 技术实现。随着集成电路 (IC) 功能规模缩小,用于生产它们的设计方案也随之缩小。制造可支持更精细几何形状的光掩模需要革命性的思维。我们可以共同创建大批量生产解决方案。

复杂图形

光掩模承载了集成电路设计师从概念化到实现的愿景。从光掩模开始,收缩设备节点会对图形化工艺带来挑战。通过积极的协作,我们可以定制我们的工具和系统来提供没有缺陷的光掩模。

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