有栅 RF 离子源

Veeco 的有栅 RF 离子源专为改善长时间运行的离子束沉积工艺的生产而设计。

有栅 RF 离子源

Veeco 的有栅 RF 离子源专为改善长时间运行的离子束沉积工艺的生产而设计。

Veeco 的 NOVUS RF 离子源控制器拥有最先进的精密控制,可以为离子源操作提供稳定的功率……
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Veeco 的 6 x 22cm 有网格线性 RF 离子源设计用于具有基质的高效在线系统,非常适合……
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Veeco 的 6 x 66cm RF 线性离子源是大规模基质的均匀制程的理想之选,可提供低维护、无丝状操作……
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Veeco 的 16cm RF 高功率 (HP)离子源非常适合用于反应性工艺,提供离子束均匀度……
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获得适用于反应性工艺(例如离子束辅助或离子束沉积 (IBD))的宽均匀度离子束源……
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改进长期连续反应性工艺的性能和质量,例如离子束辅助或离子束沉积 (IBD)……
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