金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

Veeco 提供一系列业界领先的 MOCVD 设备,主要用于在降低拥有成本的同时让产量达到最高。

Propel emPower GaN MOCVD 系统

可集群平台通过以最低的拥有成本实现最高性能,加速了基于 GaN 的功率和 RF 器件的采用 

 

用于 LED 生产的 TurboDisc EPIK 868 MOCVD 系统

EPIK 868 MOCVD 系统使每片晶圆节省的成本超过 20%,并且具有最佳的正常运行时间、低维护成本、同类产品中最佳的晶圆一致性和 1.6 倍于竞争系统的占地面积效率等优势。

Propel enLight GaN MOCVD 系统

专为高容量高性能、宽带超发光发光二极管行业而设计。

用于 LED 生产的 TurboDisc EPIK 700 GaN MOCVD 系统

Veeco 获奖的 EPIK® 700 MOCVD 系统是 LED 行业生产率最高的 MOCVD 系统,可使每晶片的成本降低高达 20%。

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统是业界生产率最高、拥有成本最低的 MOCVD 系统,专为大批量生产 LED 精心设计

适用于功率器件的 Propel Power GaN MOCVD 系统

Veeco 的新 Propel™ Power GaN MOCVD 系统采用单晶片反应器技术,能够生产 GaN 基高效功率器件。