原子层沉积

原子层沉积

Veeco 的原子层沉积 (ALD) 系统(Firebird™、Savannah®、Fiji® 和 Phoenix®)设计用于沉积厚度完全一致(甚至在孔隙、沟槽和空腔深处也是如此)的无针孔涂层。

推出 Firebird 原子层沉积 (ALD) 系统

Firebird 系统是一种全自动批量生产原子层沉积 (ALD) 平台,能够以尽可能低的单晶片成本提供出色的均匀性和同类最佳产量。集成经过验证的 Veeco 自动化解决方案,可通过低影响的批量传输实现安全的晶片处理。其模块化的预热和冷却设计可根据您的规格定制灵活的热管理解决方案。Firebird 系统的高容量反应器、低耗材/维护成本和紧凑的占地面积提供了最具成本效益的解决方案,并可超出您的产量要求。点击此处了解更多。
 
Firebird 原子层沉积 (ALD) 系统